Publicación de investigadores y estudiantes es destacada en Physical Review Materials

La publicación  “Atomic-layered MoS2 on SiO2 under high pressure: Bimodal adhesion and biaxial strain effects”  de R. S. Alencar, K. D. A. Saboia, D. Machon, G. Montagnac, V. Meunier, O. P. Ferreira, A. San-Miguel, and A. G. Souza Filho recebe destaque en la sección “Editor’s sugestion” de la revista Physical Review Materials.

Este artículo aclara la interacción entre MoS2 y el sustrato de SiO2 bajo la influencia de la presión externa. Por medio de experimentos Raman, los autores estudiaron la evolución de los modos de vibración en el plano y fuera del plano de MoS2 exfoliado bajo presión hasta el límite de 8 GPa. Se verificó que la tensión biaxial se transmite del sustrato a las capas de MoS2 a través de la deformación del sustrato, y el grado de transferencia de tensión depende del grosor del MoS2. Por ejemplo, se observó que los modos E2g y A1g se desplazan a todo el sistema de múltiples capas y se dividen sólo para MoS2 mono y bicapa. El comportamiento dependiente del espesor y se entiende en términos de la variación del módulo de flexión y de las propiedades de adhesión de MoS2. Los resultados presentados en este artículo pueden ayudar en el estudio de ingeniería de strain y straintrónica en sistemas bidimensionales.

https://journals.aps.org/prmaterials/

Phys. Rev. Materials 1, 024002 (2017)