Artigo de pesquisadores e estudantes do Departamento de Física é destaque no Physical Review Materials

O artigo “Atomic-layered MoS2 on SiO2 under high pressure: Bimodal adhesion and biaxial strain effects” de autoria de R. S. Alencar, K. D. A. Saboia, D. Machon, G. Montagnac, V. Meunier, O. P. Ferreira, A. San-Miguel, and A. G. Souza Filho recebeu destaque na seção “Editor’s sugestion” da revista Physical Review Materials.

Esse artigo clarifica a interação entre MoS2 e substrato de SiO2 sob a influência da pressão externa. Por meio de experimentos Raman, os autores estudaram a evolução dos modos de vibração no plano e fora do plano de MoS2 esfoliado sob pressão até o limite de 8 GPa. Foi verificado que a tensão biaxial é transmitida do substrato para as camadas de MoS2 através da deformação do substrato, e o grau de transferência de tensão depende da espessura do MoS2. Por exemplo, foi observado que os modos E2g e A1g se deslocam para todo o sistema de multiplas camadas e dividem-se apenas para MoS2 mono- e bicamada. O comportamento dependente da espessura é entendido em termos da variação do módulo de flexão e das propriedades de adesão do MoS2. Os resultados apresentados neste artigo podem auxiliar no estudo de engenharia de strain e straintrônica em sistemas bidimensionais.

https://journals.aps.org/prmaterials/

Phys. Rev. Materials 1, 024002 (2017)